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光氧催化凈化設(shè)備 UV光解凈化器

  • 發(fā)布時(shí)間:2023-03-08 17:14:10,加入時(shí)間:2021年06月23日(距今1477天)
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C波段光氧催化凈化技術(shù),是一種利用新型的復(fù)合納米高科技功能材料的技術(shù),采用領(lǐng)先的三重祛異味原理。

1.一重凈化:采用UV雙波段照射廢氣分子,產(chǎn)生游離電子及電子空穴,生成極強(qiáng)的光氧還原功能,可氧化分解各種有機(jī)化合物和部分無(wú)機(jī)化合物,廢氣分子吸收了紫外線的能量后,細(xì)菌分子的DNA(脫氧糖核酸)與核蛋白之間的斷裂,造成核酸與蛋白的交聯(lián)破壞,達(dá)到一重除臭凈化作用。

2.二重凈化:光氧催化在釋放大量C波段紫外線氧化分解惡臭廢氣分子同時(shí)并產(chǎn)生臭氧,臭氧極易分解,有很強(qiáng)的氧化性能破壞分解細(xì)菌的細(xì)胞壁,能很快地?cái)U(kuò)散透進(jìn)細(xì)胞內(nèi),氧化分解有毒有害的廢氣分子,直接破壞廢氣大分子聚合物。

3.三重凈化:光觸媒納米粒子在特定波長(zhǎng)的光線照射下受激生成電子空穴對(duì),空穴分解催化劑表面吸附的水產(chǎn)生氫氧自由基,電子使其周圍的氧還原成活性離子氧,從而具備極強(qiáng)的氧化還原作用,將光催化劑表面的各種污染物摧毀。最后將其分解成無(wú)污染的水(H2O)和二氧化碳(CO2),因此整體治理效果高達(dá)95%以上。

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