HYDRON® SE 230A 用于半導(dǎo)體器件的堿性清洗劑 專為浸沒(méi)式清洗工藝設(shè)計(jì)的單相水基型清洗劑，能夠有效去除多種半導(dǎo)體電子器件芯片焊接后的助焊劑殘留物，包括引線框架、分立器件、功率模塊、功率LED、倒裝芯片和CMOS，且能夠保證有效去除銅表面的氧化層。 相較于其他清洗液的優(yōu)勢(shì)： 為引線鍵合、封裝和膠裝等后續(xù)工藝提供無(wú)污點(diǎn)且激活的銅表面并在一定時(shí)間內(nèi)保持活性 在處理銅、鋁、鎳等敏感金屬材料時(shí)表現(xiàn)出良好的材料兼容性 非常低的表面張力，在清洗低間隙元器件的底部殘留物時(shí)擁有卓越表現(xiàn) 應(yīng)用過(guò)程十分簡(jiǎn)便，在浸沒(méi)式清洗工藝中擁有卓越表現(xiàn) 能夠輕易被去離子水漂洗干凈，不會(huì)留下任何殘留 應(yīng)用領(lǐng)域 去除污染物 清洗工藝 清洗技術(shù) SiP封裝清洗 晶圓級(jí)封裝清洗 MEMS器件封裝清洗 攝像模組清洗 功率電子器件清洗