點(diǎn)腐蝕 金屬表面的電化學(xué)不均勻性是導(dǎo)致點(diǎn)蝕的重要原因。金屬材料的表面或鈍化膜等保護(hù)層中常顯露出某些缺陷或薄弱點(diǎn)(如夾雜物、晶界、位錯(cuò)等處)，這些地方容易形成點(diǎn)蝕核心。金屬浸入含有某些活化陰離子（特別是氯離子）的溶液中，只要腐蝕電位達(dá)到或超過點(diǎn)蝕電位（或稱擊穿電位），就能產(chǎn)生點(diǎn)蝕。這是由于鈍化膜在溶液中處于溶解以及可再度形成的動(dòng)平衡狀態(tài),而溶液中的活化陰離子(氯離子)會(huì)破壞這種平衡,導(dǎo)致金屬的局部表面形成微小蝕點(diǎn)，并發(fā)展為點(diǎn)蝕源。例如不銹鋼表面的硫化物夾雜的溶解，暴露出鋼的新鮮表面，就會(huì)形成點(diǎn)蝕源。

應(yīng)用領(lǐng)域：

不銹鋼、合金、等金屬材料制品

檢測標(biāo)準(zhǔn)：

GB/T  金屬和合金的腐蝕 點(diǎn)蝕評(píng)定方法

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