鍍膜機的主要功能是在高真空環(huán)境下進行薄膜鍍制，通過物理方法濺射出金屬原子，使金屬原子沉積在樣品表面，從而形成一層薄膜。這種設備具有高精度控制系統(tǒng)，能夠精確控制蒸鍍過程中的各種參數，如溫度、氣壓、蒸發(fā)速率等，確保薄膜制備的質量和穩(wěn)定性。

鍍膜機的工作原理主要是通過在真空條件下，利用蒸發(fā)或濺射等方式發(fā)射出膜材料粒子，沉積在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上形成鍍膜層，達到裝飾、保護、防污、防潮、延長物體壽命等作用。真空鍍膜機的技術指標包括極限真空度、可鍍空間尺寸等，這些指標保證了鍍膜過程的可控性和薄膜的質量。