鍍膜機(jī)是一種用于在物體表面覆蓋一層薄膜的設(shè)備，‌廣泛應(yīng)用于物理學(xué)、‌化學(xué)、‌機(jī)械工程等多個領(lǐng)域。‌鍍膜機(jī)通過在真空條件下，‌采用等離子技術(shù)，‌制備純度高的金屬膜、‌化合物膜等，‌適用于半導(dǎo)體、‌顯示技術(shù)、‌光伏產(chǎn)業(yè)、‌工具鍍膜、‌裝飾鍍膜、‌功能鍍膜等多種應(yīng)用場景。‌鍍膜機(jī)的主要組成部分包括真空腔室、‌蒸發(fā)源、‌基片臺、‌真空泵系統(tǒng)等，‌通過控制蒸發(fā)源的溫度和基片的位置，‌可以在基片上形成所需的薄膜。‌

鍍膜機(jī)的工作原理主要涉及兩種技術(shù)：‌蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜。‌蒸發(fā)鍍膜是通過加熱靶材使其表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，‌并沉積在基片表面形成薄膜。‌濺射鍍膜則是利用電子或高能激光轟擊靶材，‌使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，‌并最終沉積在基片表面形成薄膜。‌這兩種技術(shù)都能在基片上形成均勻、‌致密的薄膜，‌具有優(yōu)異的附著力和良好的光學(xué)、‌電學(xué)性能。‌