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小型坩堝真空高溫鍍膜儀

小型坩堝真空高溫鍍膜儀KT-Z1650CVD是一款小型臺式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預熱功率及蒸發(fā)功率,可對大部分金屬進行均勻蒸發(fā)沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜

小型濺射儀

小型坩堝真空高溫鍍膜儀技術(shù)資料

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

加熱方式

數(shù)字式功率調(diào)整器

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1200W

輸出電壓電流

電壓≤12V 電流≤120A

真空度

機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm

樣品臺

可旋轉(zhuǎn)φ62 (可安裝φ50基底)

樣品臺轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離

70-140mm

蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié)

≤1800℃

支持蒸發(fā)坩堝類型

鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩

預留真空接口

KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口

可選配擴展

機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa)

數(shù)顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa)

分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa)

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