磁控濺射儀帶水冷KT—Z1650PVD是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓，電流反饋，樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度可調(diào)節(jié)及電動(dòng)擋板功能。通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。
技術(shù)參數(shù)
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控制方式 |
7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制 |
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濺射電源 |
直流濺射電源 |
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鍍膜功能 |
0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
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功率 |
≤1000W |
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輸出電壓電流 |
電壓≤1000V 電流≤1A |
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真空 |
機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
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濺射真空 |
≤30Pa |
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擋板類(lèi)型 |
電控 |
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真空腔室 |
石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
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樣品臺(tái) |
可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底） |
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樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速 |
8轉(zhuǎn)/分鐘 |
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樣品濺射源調(diào)節(jié)距離 |
40-105mm |
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真空測(cè)量 |
皮拉尼真空計(jì)（已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
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預(yù)留真空接口 |
KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |
