設備主要技術參數

1) 外形尺寸（約）:L1200×W1100×H1850（mm） 外觀噴塑處理

2) 反應倉尺寸：不銹鋼 W450mm×H400mm×D470mm

3) 電源：主系統(tǒng)電源: 380×(1±10%)V(AC) 50Hz～60Hz 三相五線

4）等離子體頻率：13.56MHz

5）射頻電源功率：（0～600）W 可調

6）設備功率：≤4kW

7)控制方式：采用包括觸摸屏人機界面的 PLC 控制，操作方式包括自動模式和手動模式。在自動模式下將不同工藝參數按照配方方式管理， 可同時存儲 100 組不同的配方。使用時只需要將相應配方號調出即可。設備參數分級管理，設備操作員、工藝人員、維護人員使用不同口令管理不同參數，提高設備安全性。手動模式用于實驗工藝以及設備維護維修。

8)MFC 質量流量控制

氣體流量：(0～200)ml/min （標況下）

9)工作氣體(氧、氬等)接口壓力：≤0.45MPa

10）壓縮空氣（啟動氣動角閥）接口壓力：0.5Mpa

11）凈化冷卻氣體（氮氣）接口壓力：0.45MPa

12）設備工作節(jié)拍：單次清洗時間≤8min（清洗時間 6min，具體以實際清洗時間為準）

13）工作真空度：30～150Pa

14）反應倉工作溫度：30~60℃

15)極板數量：水平電極板≥8 層，極板間任意組合