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石墨烯納米片增強(qiáng)鋁基復(fù)合材料分散設(shè)備

  • 發(fā)布時(shí)間:2025-08-18 07:14:42,加入時(shí)間:2013年03月04日(距今4554天)
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石墨烯納米片增強(qiáng)鋁基復(fù)合材料分散設(shè)備,氧化石墨烯復(fù)合鋁機(jī)材料設(shè)備,德國(guó)進(jìn)口研磨分散機(jī),石墨烯復(fù)合鋁基研磨分散機(jī),短時(shí)間高效率研磨分散機(jī)

IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)獨(dú)特,能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?梢砸粰C(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

鋁基復(fù)合材料具有高比強(qiáng)度,優(yōu)異的導(dǎo)熱、導(dǎo)電性,良好的延展性等優(yōu)點(diǎn)。在汽車、航空航天、電子和光學(xué)儀器等領(lǐng)域有著非常廣泛的應(yīng)用。近年來(lái),隨著石墨烯及其衍生物的發(fā)現(xiàn),越來(lái)越多的研究者將其用作增強(qiáng)體來(lái)增強(qiáng)鋁基復(fù)合材料,用以提高鋁基復(fù)合材料的綜合性能。經(jīng)石墨烯增強(qiáng)的鋁基復(fù)合材料的耐磨性、導(dǎo)熱性以及強(qiáng)度等都有顯著提升。目前,石墨烯增強(qiáng)鋁基復(fù)合材料的研究主要集中在如何使石墨烯在鋁基體中均勻分散,以及如何避免鋁基體和石墨烯因接觸發(fā)生反應(yīng)產(chǎn)生碳化物(Al4C3)。常用的石墨烯及其衍生物作為金屬基復(fù)合材料的增強(qiáng)體材料有3種,即石墨烯,氧化石墨烯以及石墨納米片。

里著重說(shuō)下石墨納米片鋁基材料的應(yīng)用
石墨納米片是由層疊的石墨烯層(約10~30層)組成,在弱范德華力下相互黏結(jié)。石墨納米片具有易制備和成本低的優(yōu)點(diǎn)。石墨納米片由于優(yōu)異的電、熱、力學(xué)性能,高比表面和低密度,可以克服傳統(tǒng)材料的性能限制,因此常被用作鋁基復(fù)合材料的增強(qiáng)體材料

復(fù)合粉體的制備
增強(qiáng)鋁基復(fù)合材料的過(guò)程中,一方面由于石墨烯片之間的范德華力,石墨烯會(huì)在加工過(guò)程中團(tuán)聚;另一方面,由于石墨烯與鋁表面存在大的潤(rùn)濕角,直接影響石墨烯在鋁基體中的均勻分散。因此,為了提高石墨烯增強(qiáng)鋁基復(fù)合材料的綜合性能,石墨烯均勻分散在鋁基體中成為了關(guān)鍵因素之一。常用的分散方法可分為物理方法和化學(xué)方法兩種。

研磨分散是一種新德方法,采用國(guó)外進(jìn)口,對(duì)于混合粉末制備工藝非常之好。通過(guò)研磨刀頭的定轉(zhuǎn)子剪切力可以破壞石墨納米片之間的范德華力,研磨刀頭下還有一層超細(xì)分散組合,在高速旋轉(zhuǎn)下促進(jìn)了石墨烯在鋁粉中的均勻分散。然而相對(duì)其他設(shè)備所消耗的時(shí)間要少很多,研磨時(shí)間過(guò)長(zhǎng)可能導(dǎo)致石墨烯結(jié)構(gòu)被破壞,影響石墨烯的使用效果。
采用這款研磨分散設(shè)備制備了不同含量石墨納米片增強(qiáng)的Al5083基復(fù)合材料。石墨納米片增強(qiáng)Al5083復(fù)合材料的透射電子顯微鏡下所示,石墨納米片嵌入晶粒中。顯示破碎的石墨納米片位于晶界處。結(jié)果表明,控制工藝條件,石墨納米片甚至是小碎片在此制備過(guò)程中可以均勻地分散在鋁基體中。

上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡(jiǎn)單的說(shuō)就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤。可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 
型號(hào) 流量
L/H 轉(zhuǎn)速
rpm 線速度
m/s 功率
kw 入/出口連接
DN
CMD2000/4 300 9000 23 2.2 DN25/DN15
CMD2000/5 1000 6000 23 7.5 DN40/DN32
CMD2000/10 2000 4200 23 22 DN80/DN65
CMD2000/20 5000 2850 23 37 DN80/DN65
CMD2000/30 8000 1420 23 55 DN150/DN125
CMD2000/50 15000 1100 23 110 DN200/DN150
 
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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