，納米硅分散設(shè)備，鋰離子電池用納米硅混合分散設(shè)備，納米硅研磨細(xì)化設(shè)備，德國進(jìn)口研磨分散機(jī)，高剪切研磨分散機(jī)
IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)獨(dú)特，能夠延長易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎�？梢砸粰C(jī)多用，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。
隨著人們?nèi)找嬖鲩L的需求和科學(xué)技術(shù)發(fā)展的需要，對鋰離子二次電池的容量和循環(huán)性提出了更高的要求，在許多儲(chǔ)能裝置應(yīng)用方面對功率密度的要求越來越高，特別是大容量、高功率的超級電容器、動(dòng)力型鋰離子電池將成為今后環(huán)保型電動(dòng)汽車、海陸空軍事裝備和軍事通訊的理想電源。因此，開發(fā)具有高容量和循環(huán)性能好的電極材料是研制高性能鋰離子二次電池的首要任務(wù)。與已商品化使用的負(fù)極炭材料如石墨、中間相炭微球、石油焦等相比，Si與Li形成的合金均具有遠(yuǎn)高于石墨理論值372mAh / g的儲(chǔ)鋰容量(S1-Li合金為4200mAh / g),作為鋰離子二次電池負(fù)極材料已成為目前國際上的研究熱點(diǎn)。但是,這種材料實(shí)際應(yīng)用中還存在許多問題，其主要原因是Si在Li的嵌入和脫出過程中發(fā)生較大的體積變化(膨脹率達(dá)300% )，在材料內(nèi)部產(chǎn)生較大的內(nèi)應(yīng)力，造成粉末化而導(dǎo)致電極循環(huán)性能嚴(yán)重衰退。
目前解決這個(gè)問題采取的主要手段是將這些材料的尺寸裁減到納米尺寸，通過降低體積效應(yīng)來縮短充放電過程中離子的擴(kuò)散路徑而緩減體積膨脹。納米硅粉的制備方法有很多，主要有化學(xué)氣相沉積，激光燒蝕法，物理蒸發(fā)法、溶液法等，但這些方法制備納米硅成本比較高，生產(chǎn)量比較小，同時(shí)制備出來的納米硅穩(wěn)定性和粒徑均一性差。
納米硅的制備方法，將粒徑為1～20微米的硅粉按照固含量為5～50%的比例加入到分散劑中，高速分散均勻后，加入到循環(huán)式研磨機(jī)中，在溫度為10～60℃的情況下，研磨4～20小時(shí)，即得到納米硅。所述的分散劑為下列之一或兩種以上任意比混合物：水、乙醇、bing酮、環(huán)己烷、丁酮、丁醇、乙二醇。具有生產(chǎn)工藝簡單，生產(chǎn)成本低等優(yōu)點(diǎn)；制備的納米硅純度高，粒徑均勻，穩(wěn)定性好，可用于金屬表面處理或者替代納米碳粉或石墨，作為鋰電池負(fù)極材料，大幅度提高鋰電池容量。
CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。
CMD2000模塊化設(shè)計(jì)主要由兩層分散頭構(gòu)成，工作時(shí)，物料通過投料口進(jìn)入分散腔，首先到達(dá)層分散頭進(jìn)行處理，由于馬達(dá)帶動(dòng)轉(zhuǎn)子齒列高速運(yùn)轉(zhuǎn)，產(chǎn)生渦流和離心力效應(yīng)使得物料軸向吸入分散頭，然后沿著定-轉(zhuǎn)子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用，之后在轉(zhuǎn)子齒列與定子齒列的強(qiáng)力剪切間隙中物料被強(qiáng)烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時(shí)完成第二次剪切，接著流出的物料進(jìn)入第二層分散頭腔體，對處理過的物料再次進(jìn)行剪切（原理同上），從而確�；旌戏稚@得很窄的粒徑分布，獲得更小的液滴和顆粒，生成的混合液穩(wěn)定性更好，滿足生產(chǎn)時(shí)對于粒徑的要求。
CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：
1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備其它參數(shù):
設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
