產(chǎn)品關鍵詞概述：油，水基壓裂液粉碎分散機，壓裂液高速分散機，油基壓裂液分散機

上海IKN技術，獨特創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質機”、“研磨乳化機”。

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此款研磨分散機14000轉，比普通的研磨機的速度達到4-5倍以上，分散乳化均質研磨效果非常好，可以達到納米級。另外研磨式分散機采用全新設計，將IKN高剪切膠體磨和高剪切分散機一體化的設備。

CMD2000研磨機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。
CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
CMD2000系列研磨分散機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

4、在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

水，壓裂液分散機，壓裂液研磨機，稠化油壓裂液分散機，油凍膠壓裂液研磨分散機，油包水壓裂液分散機，油基泡沫壓裂液研磨分散機

油基壓裂液分為兩種類型：第一種是以水作分散介質的水基壓裂液如稠化水、水凍膠、水包油乳化液、水基泡沫和某些酸性溶液等。

第二種是以礦物油作分散介質的油基壓裂液如稠化油、油包水乳化液、油基泡沫等。

壓裂液的性能要求：黏度高，潤滑性好，濾失量小，低摩阻，對被壓裂的流體層無堵塞及損害，對流體礦無污染，熱穩(wěn)定性及剪切穩(wěn)定性能好、低殘渣、配伍性好、破膠迅速、貨源廣，便于配制，經(jīng)濟合理。

油層水力壓裂的過程是在地面采用高壓大排量的泵，利用液體傳壓的原理，將具有一定粘度的液體（通常稱之為壓裂液），以大于油層的吸收能力的壓力向油層注入，并使井筒內壓力逐漸升高，從而在井底憋起高壓，當此壓力大于井壁附近的地應力和地層巖石的抗張強度時，便在井底附近地層產(chǎn)生裂縫：繼續(xù)注入帶有支撐劑的攜砂液，裂縫向前延伸并填以支撐劑，關井后裂縫閉合在支撐劑上，從而在井底附近地層內形成具有一定幾何尺寸和高導流能力的填砂裂縫，是井達到增產(chǎn)增注的目的。  

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